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Automatic wafer cleaning machine
Automatic wafer cleaning machine
  • Product details
  • Rice
Automatic wafer cleaning machine(图1)

产品介绍
产品概述:该系列超声波清洗机根据硅片性能设计的一种专业清洗设备。设备具有清洗,漂洗等八个工位,设备利用超声波空话渗透力强的工作原理并结合清洗剂的化学除油、去污作用使工作表面洁净。
使用范围:硅片清洗
产品特点:
本设备为多工位通过式超声波清洗线,传动机械臂气运送料,篮筐式清洗,运行安全可靠,使用寿命长;
清洗接怕可根据清洗工件的清洁度要求,任意调节清洗时间(面板上直接设定);
在清洗过程中增加偏心摆动装置,使工件在清洗槽内作上下抛动来提高清洗效果;
各清洗槽设计成锥形结构,并有排污口,便于刷底清洗;
全封闭结构,设备配有抽风吸雾装置,改善工作环境;

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